Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ〜ＴＳＭＣが明かす露光戦略 「次の３世代は液浸で攻める」
日経マイクロデバイス 第226号 2004.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第226号（2004.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全9065字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （330kb） |
| 雑誌掲載位置 | 81〜86ページ目 |
Ｂｕｒｎ Ｊ． Ｌｉｎ台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ）Ｍｉｃｒｏｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＤｉｖｉｓｉｏｎＳｅｎｉｏｒ Ｄｉｒｅｃｔｏｒ 液浸露光技術は，対物レンズとレジストの間に高屈折率の液体を入れることで解像度を向上する技術である。ここへ来て，ハーフピッチ（ｈｐ）６５ｎｍおよび４５ｎｍの露光技術として注目…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 550円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「6ページ（全9065字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ〜次世代露光は液浸に決まり
Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ 囲み〜露光装置も提案型ビジネスへ 第１弾が液浸ＡｒＦ
Ｉｎｓｉｄｅ Ｄｉｓｐｌａｙ〜中国のＦＰＤテレビ市場 「リアプロと液晶がけん引」
Ｉｎｓｉｄｅ Ｄｉｓｐｌａｙ 囲み〜モニターの次はテレビ ＯＥＭ／ＯＤＭ戦略で攻める台湾メーカー
ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｌｏｇｉｃ］〜韓国Ｓａｍｓｕｎｇの携帯電話機 台数ベースで世界３位 売上高では世界２位に
