Ｒｅｐｏｒｔ［Ｍｅｍｏｒｙ］〜ＡｒＦ液浸向け露光装置 大手３社が一斉に製品化へ
日経マイクロデバイス 第223号 2004.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第223号（2004.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全1970字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （83kb） |
| 雑誌掲載位置 | 125〜126ページ目 |
露光装置大手３社が液浸技術に対応したＡｒＦエキシマ・レーザー露光装置の開発を急加速させている（図１）。このような姿が，２００３年１２月３〜５日に開かれた「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｊａｐａｎ ２００３」で明らかになった。液浸は光学レンズとウエーハの間に液体を浸して屈折率を高め，解像度や焦点深度を改善する技術である。これにより，次世代プロセス技術ノードに対応した露光装置の開発期間の短縮や装置コストの急拡大の…
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