Ｒｅｐｏｒｔ［Ｌｏｇｉｃ］〜工場シミュレーションや装置運用で 国内と海外のアプローチの違いが顕著に
日経マイクロデバイス 第221号 2003.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第221号（2003.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1810字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （45kb） |
| 雑誌掲載位置 | 128ページ目 |
工場シミュレーションや装置のアイドル時間削減。今後の工場運営における重要技術について，国内と海外の取り組みが大きく違ってくる。このことが９月３０日〜１０月２日に米国サンノゼで開かれた「１２ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ（ＩＳＳＭ ２００３）」で顕著に見えた。大部分がソフトウェアに関する発表である海外メーカーに対し…
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