Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｌｏｇｉｃ］〜米Ｉｎｔｅｌが考える３００ｍｍライン戦略 スケール・メリットとナノテクで展開 ２０１１年にゲート長１０ｎｍで量産
日経マイクロデバイス 第221号 2003.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第221号（2003.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全654字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （105kb） |
| 雑誌掲載位置 | 120ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．のＳｅｎｉｏｒ Ｖｉｃｅ Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ，Ｓｕｎｌｉｎ Ｃｈｏｕ氏が同社の技術と製造に関する講演を「Ｉｎｔｅｌ Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ Ｆｏｒｕｍ」で実施した。３００ｍｍウエーハ量産ラインのスケール・メリットや２０１１年までの微細化スケジュール，ナノテクノロノジなどについて言及している。３００ｍｍラインに関しては，２００ｍｍウエーハ量産ラインに対して，チップの取得数で約２…
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