Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ〜ニコン● 局所液浸方式を有望視
日経マイクロデバイス 第219号 2003.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第219号（2003.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2289字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （243kb） |
| 雑誌掲載位置 | 64〜65ページ目 |
大和 壮一ニコン精機カンパニー開発本部第一開発部 第四開発課 １０年ほど前から液浸技術を検討してきた。最近，ＡｒＦ露光装置の開口数ＮＡが物理的限界に近付いたこと，Ｆ２露光技術やＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａ ｖｉｏｌｅｔ）露光技術のコストが高くなることから，再び液浸露光技術について検討を進めた。その結果，ＮＡが１．２までの投影レンズ設計が現状で可能であること，レンズを水に局所的に浸す局所液浸方…
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