Ｃｏｖｅｒ Ｓｔｏｒｙ Ｐａｒｔ３〜設計と露光のツールを統合 歩留まり・コスト改善へ
日経マイクロデバイス 第219号 2003.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第219号（2003.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全7418字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （175kb） |
| 雑誌掲載位置 | 46〜51ページ目 |
ＥＤＡベンダーである米Ｓｙｎｏｐｓｙｓ， Ｉｎｃ．が，従来は製造側の責任と見られていた歩留まり改善のための技術ソリューションを開発した。設計側の意図を製造側に反映させたり，製造側の状況に合わせた設計を実現したりできるＥＤＡツールを開発，歩留まりや製造関連の問題を，ＥＤＡツールによって解決しようとしている。具体的には，ＥＤＡツールによって露光のプロセス余裕度を拡大する，マスク・コストを削減する，検査…
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