Ｉｎｓｉｄｅ　Ｍｅｍｏｒｙ〜新露光技術「液浸」が急展開　４５ｎｍ向けに戦略を再構築
日経マイクロデバイス　第219号　2003.9.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第219号（2003.9.1）
ページ数	3ページ　（全3676字）
形式	PDFファイル形式　（243kb）
雑誌掲載位置	61〜63ページ目

「４５ｎｍのリソグラフィ（露光）の光源には波長１５７ｎｍのＦ２レーザー」。そんな見方がここに来て急速に変わり始めている。１３０〜６５ｎｍ向けに使われてきた波長１９３ｎｍのＡｒＦレーザーを４５ｎｍ向けにも使う「ＡｒＦ液浸」技術を採用しようという動きが出てきたからである。ＡｒＦ液浸は，開口数（ＮＡ）を高められる水中でレーザー光を収束させて解像度を高める技術である。レーザー光の短波長化で解像度を高めてき…