Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｌｏｇｉｃ］〜「ＥＰＬのインフラが確立」 Ｓｅｌｅｔｅなどが共同発表
日経マイクロデバイス 第218号 2003.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第218号（2003.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全228字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （100kb） |
| 雑誌掲載位置 | 101ページ目 |
６月に開かれた半導体デバイス・プロセス技術の国際会議「２００３ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ ＶＬＳＩ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」で，半導体先端テクノロジーズなどがＥＰＬ技術を発表した。今回は重ね合わせ精度の評価，および確立したインフラ技術の実績を踏まえたコスト計算を実施した。重ね合わせ精度はミックス・アンド・マッチで３０ｎｍ，ＥＢステッパ同士で２０ｎｍである。コストに関しては，マスク当たりの生産量が少…
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