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日経マイクロデバイス　第215号　2003.5.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第215号（2003.5.1）
ページ数	2ページ　（全2111字）
形式	PDFファイル形式　（109kb）
雑誌掲載位置	106〜107ページ目

ＬＳＩ製造　連続稼働してもノズル部が詰まらない強誘電体膜向けのＣＶＤ装置。従来のＣＶＤ装置は８〜１０時間でノズル部が目詰まりを起こし，量産性を低下させていた。　目詰まりしないのは，ノズル部へ原料を供給する配管の温度と，原料供給のタイミングを最適化したためである。まず，配管内の温度を１５℃に冷却して加圧しておき，溶剤の気化による原料のゾル化を防ぐ。ただし，ノズルの吐出部のみは２５０℃に高めて原料を噴…