論文［ＬＳＩ製造］〜日本のナノテク研究は 競争力につながらない
日経マイクロデバイス 第215号 2003.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第215号（2003.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全9136字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （225kb） |
| 雑誌掲載位置 | 97〜104ページ目 |
「日本のナノテク研究は“点”の集まりだが，米国には点と点を結ぶ“線”がある」。１８年間，米国企業でＬＳＩ研究開発を支え，現在は米Ｓｔａｎｆｏｒｄ Ｎａｎｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ Ｆａｃｉｌｉｔｙ所長を務める西義雄氏は，日米のナノテク研究の違いをこう見る。個々の研究成果を比べると日米の差はほとんどないが，体系化された“線”の有無によって，実用化へのスピードや新しいアイデアの創出といった点で長期的に大…
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