ＦＰＤ特集　動向　囲み〜フォトマスクの大型化を積極推進　２ｍ角基板ライン対応に挑む
日経マイクロデバイス　第213号　2003.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第213号（2003.3.1）
ページ数	1ページ　（全506字）
形式	PDFファイル形式　（266kb）
雑誌掲載位置	74ページ目

　フォトマスクの大型化は，４６型（対角１１７ｃｍ）前後の一括露光が可能な寸法までは技術的にクリアできた。ここまでの寸法に対しては，マスク描画装置のインフラも整っている。ただし，石英基板の調達のメドはまだついていない。これから，石英ガラス・メーカーと交渉することになる。　大型化に対しては，技術よりもコストの問題が大きい。今のままでは，４６型を一括露光できるマスクのコストは，３０型（対角７６ｃｍ）を一…