技術レター［ＬＳＩ製造］〜米Ａｌｂａｎｙ大学とＩＳＭＴが ＥＵＶ露光の基盤技術で ５年の共同開発契約
日経マイクロデバイス 第213号 2003.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第213号（2003.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全203字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （63kb） |
| 雑誌掲載位置 | 47ページ目 |
露光技術ＥＵＶ露光共同開発 ＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光の開発を加速する５年の共同開発契約を，米Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ａｔ Ａｌｂａｎｙ（ＵＡｌｂａｎｙ）とＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ＳＥＭＡＴＥＣＨ（ＩＳＭＴ）が締結した。契約によれば，ＩＳＭＴはＥＵＶ露光における三つの基盤技術に関するプログラムを，ＵＡｌｂａｎｙの新しい３００ｍｍウエーハを使ったクリーン・ルームで行う。（…
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