技術レター［ＬＳＩ製造］〜９０ｎｍ対応装置や　歩留まり改善策が相次いだ　「セミコン・ジャパン」
日経マイクロデバイス　第211号　2003.1.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第211号（2003.1.1）
ページ数	1ページ　（全2032字）
形式	PDFファイル形式　（80kb）
雑誌掲載位置	31ページ目

製造装置検査・分析提携　１２月４日〜６日に開かれた「セミコン・ジャパン　２００２」では，９０ｎｍ向け製造装置に関する展示が多く，活況を呈した。さらに，極薄ゲート絶縁膜やＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎ　ｏｎ　ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）など次世代技術向け検査装置，歩留まり改善に向けた工場全体の管理やプラズマ異常放電への新サービス，次世代対応を狙った提携が相次いだ。（本誌）　製造装置では，米Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｍａｔｅｒ…