特別企画 Ｐａｒｔ２ インタビュー〜ナノリソグラフィの トータル制御を実現
日経マイクロデバイス 第210号 2002.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第210号（2002.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全792字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （253kb） |
| 雑誌掲載位置 | 76ページ目 |
Ｃｕ配線と低誘電率（ｌｏｗ−ｋ）層間絶縁膜，今後のナノリソグラフィ，先進的なゲート構造，３００ｍｍウエーハなどの新技術への移行に向け，ソリューションを提供している。具体的には，リソグラフィ，エッチング，ＣＭＰ（化学的機械研磨），薄膜形成などのために特別に設計したソリューションである。最先端の光および電子ビーム（ＥＢ）によるウエーハやマスクの検査，観察，測定ツールを使って構成する。 ２００３年度に…
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