特別企画 Ｐａｒｔ２ インタビュー〜猛スピードで 技術，体制を革新
日経マイクロデバイス 第210号 2002.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第210号（2002.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全758字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （253kb） |
| 雑誌掲載位置 | 75ページ目 |
この９月に露光装置部門を率いるようになり，現在猛スピードで改革を進めている。２００２年のビジネスは苦しかったが，この中でわれわれの強みと弱みを再確認し，それぞれに対して手を打ちつつある。２００３年はこれを現実のものとしていく年になるだろう。 強みは，レンズ技術である。ＡｒＦエキシマ・レーザーとＫｒＦエキシマ・レーザーの両方で優れた光学系を開発，実際の露光装置に製品投入できた。さらにＦ２エキシマ・…
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