μレポート［ＬＳＩ製造］〜ＡｒＦ露光技術は ６５ｎｍノードに使える
日経マイクロデバイス 第210号 2002.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第210号（2002.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2457字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （149kb） |
| 雑誌掲載位置 | 54〜55ページ目 |
露光技術エキシマ・ レーザー位相シフト量産に入り始めた波長１９３ｎｍのＡｒＦ露光装置を使って６５ｎｍ，５０ｎｍのノードを狙う。これを実現する技術として米Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．から「Ｆｕｌｌ Ｐｈａｓｅ」という技術が提案されていたが，ここへ来て，既存のＡｒＦ露光装置を使って６５ｎｍ世代のプロセス要件を満たせることを示すデータが出てきた。コスト上昇を抑制しながら，微細化…
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