μレポート［ＬＳＩ製造］〜先端プロセスの 単独開発を可能にする 米ＴＩの手法が明らかに
日経マイクロデバイス 第207号 2002.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第207号（2002.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 3ページ （全3362字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （159kb） |
| 雑誌掲載位置 | 111〜113ページ目 |
プロセスデバイス研究・開発戦略１３０〜６５ｎｍノードの先端プロセスを単独で開発しようとする数少ない企業である米Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（ＴＩ）。その同社がプロセス開発の基本戦略を明らかにした。先端プロセスを一気に立ち上げるのではなく，複数の段階に分けて開発する。段階的な開発で技術課題を限定し，それぞれの段階で大口ユーザーを確保して開発投資の早期回収を図る。 ＴＩの最先端プロセス…
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