国立財知のＩＰウォッチャ〜商標を戦略的に活用，エース級人材の投入が不可欠
日経マイクロデバイス 第206号 2002.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第206号（2002.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1340字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （76kb） |
| 雑誌掲載位置 | 160ページ目 |
中国が２００１年１２月にＷＴＯ（世界貿易機関）に加盟したことを受け，半導体産業も中国進出の話題にあふれている。これを受けて中国に対する知的財産戦略をいかに構築するか，真剣な議論が必要な時期に差し掛かっている。 そこで中国進出時における知財戦略について留意点を整理する。前提として，中国の知財に対する価値観が日本とは違うことをハッキリ認識する必要がある。中国には知財関係の法が整備されて２０年の歴史し…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全1340字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
連載［マニュファクチャリング］〜多様化に対応した 部品・材料ロードマップを策定
連載［技術者の経営教室］〜カラー携帯電話とＤＶＤで 正常な成長サイクルへ
西村吉雄の新・硅石器時代〜大きな転換への予兆か
西岡幸一の産業俯瞰〜モジュールの要塞
技術レター［ＬＳＩ製造］〜１００ｎｍ径で焦点深度１０μｍ 最新の解像結果が登場した 「第一回ＥＰＬワークショップ」
