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日経マイクロデバイス　第204号　2002.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第204号（2002.6.1）
ページ数	3ページ　（全2998字）
形式	PDFファイル形式　（134kb）
雑誌掲載位置	134〜136ページ目

ＬＳＩ製造■ＥＢマスク描画装置「ＨＬ−７０００Ｍ」　０．１μｍノードに対応した電子ビーム（ＥＢ）マスク描画装置（図１）。マスク描画装置は，入力データの転送と実際の描画を同時に行っているため，入力データの転送速度が遅いとスループットも制限されてしまう。こうした状況はまだ発生していないが，０．１μｍ以降ではマスクにＯＰＣ（光近接効果補正）が必要になり，入力データが爆発的に増えるため，深刻な問題になる。…