論文［ＬＳＩ設計］〜“マスク・コスト・ゼロ”の 設計環境がＥＢ技術で離陸
日経マイクロデバイス 第204号 2002.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第204号（2002.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全8671字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （299kb） |
| 雑誌掲載位置 | 115〜122ページ目 |
システムＬＳＩ設計環境ＥＢ直描“マスク・コスト・ゼロ”でシステムＬＳＩを設計できる環境がいよいよ立ち上がる。電子ビーム（ＥＢ）直描技術で実チップを製造し，シミュレータでは不可能な高速・高精度の検証を実施する。アイデア自体は以前からあったが，ＥＢ直描装置の稼働を安定に保つことが難しかったためにこれまで実現できなかった。今回，ＥＢ装置メーカーのアドバンテストは装置の安定性を徹底的に高めることで実用化に…
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