論文［ＬＳＩ設計］〜システムＬＳＩ技術基盤　ＩＰ利用設計・製造の課題解決
日経マイクロデバイス　第201号　2002.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第201号（2002.3.1）
ページ数	6ページ　（全6084字）
形式	PDFファイル形式　（302kb）
雑誌掲載位置	119〜124ページ目

システムＬＳＩＩＰ設計環境多種多様なＩＰ（ｉｎｔｅｌｌｅｃｔｕａｌ　ｐｒｏｐｅｒｔｙ）をブラック・ボックス的に採用するための技術インフラが欠けているため，ＩＰの再利用は当初期待されたようには進んでいない。ＳＴＡＲＣ（半導体理工学研究センター）ではこの点に着目し，ＩＰ活用に障害となっている技術インフラの問題点を特定し，それらを改善するべく技術整備活動を進めている。前回は，ＩＰ検索・評価・品質の課題を…