技術レター〜ＴＥＬとキヤノン Ｆ２露光を使った７０ｎｍ プロセスを共同研究
日経マイクロデバイス 第200号 2002.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第200号（2002.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全471字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （38kb） |
| 雑誌掲載位置 | 29ページ目 |
研究・開発露光装置 レジスト塗布・現像装置大手の東京エレクトロン（ＴＥＬ）と露光装置大手のキヤノンが，２００２年からＦ２エキシマ・レーザー露光を使った７０ｎｍプロセスの共同研究を開始する。現在，０．１３μｍ向けの露光技術としてＫｒＦエキシマ・レーザー露光が使われ，次はＡｒＦエキシマ・レーザー露光，その次にはＦ２エキシマ・レーザー露光が有望視されている。今回の共同研究の目的は，新しい光源の使用によっ…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全471字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
技術レター〜次の１０年のＬＳＩ開発 五つのトランジスタ 技術に注力
技術レター〜ＬＳＩ・ＬＣＤに大規模 投資するＳａｍｓｕｎｇ 競合振り切りへ
技術レター〜松下電子部品と日本ビクター 「コスト競争にならない」 新型基板を共同開発
技術レター〜次世代の半導体・ ディスプレイを開発する 「ＤＩＩＮ」の拠点が完成
技術レター〜リン光発光性の高分子 有機ＥＬで高効率の ＲＧＢ発光を実現
