解説［ＬＳＩ製造］　囲み〜「ＥＢ露光派は米国にも多い」　実現可能性の高さで先行
日経マイクロデバイス　第193号　2001.7.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第193号（2001.7.1）
ページ数	1ページ　（全547字）
形式	PDFファイル形式　（105kb）
雑誌掲載位置	108ページ目

　「電子ビーム（ＥＢ）縮小投影露光技術に関心を持つＬＳＩメーカーは米国にも多い」。このような認識をニコン取締役　精機カンパニー半導体露光装置事業部長の篠山伸彌氏が示した。　同氏によると，ＥＢ露光技術の開発を進めている多くの国内ＬＳＩメーカーや米ＩＢＭ　Ｃｏｒｐ．はもちろんだが，米Ｔｅｘａｓ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｉｎｃ．や米Ｍｏｔｏｒｏｌａ，　Ｉｎｃ．もＥＢ縮小投影露光技術に大きな期待を寄せてい…