産業ウオッチャ〜低加速電圧の等倍　ＥＢ露光技術「ＬＥＥＰＬ」の　開発コンソーシアムが始動
日経マイクロデバイス　第193号　2001.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第193号（2001.7.1）
ページ数	1ページ　（全434字）
形式	PDFファイル形式　（26kb）
雑誌掲載位置	29ページ目

日本露光コンソーシアム　低加速電圧の等倍電子ビーム（ＥＢ）露光技術「Ｌｏｗ　Ｅｎｅｒｇｙ　Ｅ−ｂｅａｍ　Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ　Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（ＬＥＥＰＬ）」を推進する「ＬＥＥＰＬ技術コンソーシアム」が６月１４日に発足した。参加企業はソニー，ＮＥＣ，ローム，ＮＴＴアドバンステクノロジ，大日本印刷，凸版印刷，ＨＯＹＡ，東京応化工業，ＪＳＲ，富士フイルムアーチ，東京精密，リー…