技術レター[LSI製造&LSI設計]〜IPの特許紛争 リスク対策の 大枠が見えた
日経マイクロデバイス 第193号 2001.7.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第193号(2001.7.1) |
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ページ数 | 1ページ (全541字) |
形式 | PDFファイル形式 (26kb) |
雑誌掲載位置 | 31ページ目 |
IPシステムLSI特許 IP(intellectual property)流通の大きな壁になっていた特許紛争リスクへの対策を,アイ・ピー・ティー・シー(IPTC)が明らかにした。IPベースLSIの開発から利用までを7段階に分け,それぞれ対策する。(1)特許情報の提供段階では,調査結果の提供やマルチクライアント方式による特許情報の提供を行う。(2)紛争情報の提供段階では,訴訟提起・判決・和解などに関…
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