技術レター[LSI製造&LSI設計]〜中国GSMCに 米SSTや沖電気が技術供与 生産能力を優先的に確保
日経マイクロデバイス 第191号 2001.5.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第191号(2001.5.1) |
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ページ数 | 1ページ (全365字) |
形式 | PDFファイル形式 (26kb) |
雑誌掲載位置 | 31ページ目 |
Siファウンドリ中国メモリーLSI 米Silicon Storage Technology, Inc.(SST)と沖電気工業がそれぞれ,Siファウンドリの中国Grace Semiconductor Manufacturing Corp.(GSMC)に技術供与する。SSTは0.25〜0.18μmロジック・プロセス技術と,スプリット・ゲート構造のNOR型フラッシュ・メモリー技術「SuperFlash」…
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