産業ウオッチャ〜オランダＡＳＭＬが 考える露光 ロードマップ
日経マイクロデバイス 第186号 2000.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第186号（2000.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全335字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （56kb） |
| 雑誌掲載位置 | 136ページ目 |
欧州露光光源 オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）は，今後の露光ロードマップを明らかにした。０．１３μｍ向けは開口数（ＮＡ）が約０．７のＫｒＦエキシマ・レーザー露光に超解像技術を，０．１μｍ向けはＮＡが０．７〜０．７５のＡｒＦエキシマ・レーザー露光に超解像技術を組み合わせる。２００５年に量産が始まる０．０７μｍ向けはＮＡが０．７〜０．８のＦ２エキシマ・レーザー露光と超解像技術を組み…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全335字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
産業ウオッチャ 寄稿〜ベンチャ，大手が 入り乱れてＣＭＯＳ イメージ・センサーに参入
産業ウオッチャ 寄稿〜スマート・カード関連の 「ＣＡＲＴＥＳ ２０００」開催 システム性の高いチップへ
技術レター［ＬＳＩ設計］〜「ＩＳＳＣＣ２００１」 ギガ時代の 本格到来を告げる
技術レター［ＬＳＩ設計］〜Ｃｈａｒｔｅｒｅｄ，ＲＦ ＣＭＯＳ ロードマップを明らかに， ２００１年には０．１３μｍへ
技術レター［ＬＳＩ設計］〜図研とエルピーダメモリが 次世代ＤＲＡＭ設計環境を 共同開発
