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日経マイクロデバイス 第186号 2000.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第186号（2000.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全8906字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （153kb） |
| 雑誌掲載位置 | 178〜185ページ目 |
ＬＳＩ製造０．１μｍ対応の露光装置■ＡｒＦ露光装置「ＰＡＳ ５５００／１１００」 ０．１μｍルールに対応した量産向けＡｒＦエキシマ・レーザー・スキャン露光装置（図１）。これまで，研究・開発向けや試作・少量量産向けのＡｒＦ露光装置は出荷していたが，解像度やスループットが不十分な点から量産には使えなかった。今回，解像度を０．１μｍとし，スループットを従来比約１．３倍に向上して量産対応とした。解像度を高…
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