技術レター［ＬＳＩ設計］〜０．１３μｍＬＳＩの設計完了を ＴＳＭＣが発表，量産開始は ＩＴＲＳより１年前倒し
日経マイクロデバイス 第184号 2000.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第184号（2000.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全366字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （25kb） |
| 雑誌掲載位置 | 63ページ目 |
微細化システムＬＳＩＳｉファウンドリ ０．１３μｍプロセスは，ＬＳＩ技術の国際ロードマップ「Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｒｏａｄｍａｐ ｆｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ（ＩＴＲＳ）」の１９９９年版より１年早く実用化することになった。１９９９年版では２００２年となっていたが，台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭ…
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