Ｄｅｔａｉｌｓ ＬＳＩ（ロジック）〜「ダマシン・トランジスタ」 実用化阻む３大課題に対し ２０００年内の決着目指す
日経マイクロデバイス 第179号 2000.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第179号（2000.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全1837字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （60kb） |
| 雑誌掲載位置 | 173〜174ページ目 |
ＬＳＩ製造トランジスタ微細化結晶微細化の限界を打破する次世代トランジスタ技術である「ダマシン・ゲート・トランジスタ」の実用化を阻む３大課題が，２０００年内に解決できる可能性が高まってきた。東芝セミコンダクター社は２０００年３月２８日〜３１日に開かれた「２０００年（平成１２年）春季 第４７回応用物理学関係連合講演会」で第１の課題であるしきい電圧バラつきの問題をまず克服，第２，第３の課題についても２０…
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