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日経マイクロデバイス　第178号　2000.4.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第178号（2000.4.1）
ページ数	5ページ　（全5376字）
形式	PDFファイル形式　（120kb）
雑誌掲載位置	174〜178ページ目

ＬＳＩ製造マスク基板検査で唯一０．１３μｍに対応■マスク基板向け欠陥検査装置「Ｍ−１３２０」　パターン形成前のマスク基板向けでは唯一０．１３μｍルールに対応した欠陥検査装置。マスクの製造歩留まりを向上できるため，高騰するマスク価格を抑制する切り札として待ち望まれていた。一般に０．１３μｍ向けマスク製造では寸法０．１μｍの欠陥を検査する装置が要求される。ただ，現在多く使われているレーザー散乱光方式の…