ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜アドバンテストが ＥＢ露光装置の 製品化ロードマップを発表
日経マイクロデバイス 第169号 1999.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第169号（1999.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全447字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （37kb） |
| 雑誌掲載位置 | 132ページ目 |
露光技術製造装置微細化 電子ビーム（ＥＢ）露光装置の製品化ロードマップを初めてアドバンテストが発表した。まず縮小率６０：１のブロック露光方式で０．１８μｍ対応の現行装置にＥＢの直進性を向上する改良を加えた，０．１３μｍ対応装置を１９９９年に出荷する。次に縮小率を２５：１に変えて解像度とスループットを大幅に改善させた０．１μｍ対応装置を２００２年に出荷する。解像度は０．０６μｍ，スループットは２００…
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