ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ　ＬＳＩ（メモリー）〜日立製作所が　半導体マスク事業を　大日本印刷に譲渡
日経マイクロデバイス　第169号　1999.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第169号（1999.7.1）
ページ数	1ページ　（全378字）
形式	PDFファイル形式　（37kb）
雑誌掲載位置	132ページ目

露光技術部品・材料微細化　日立製作所は，半導体マスク部門を１９９９年１０月１日付けで大日本印刷へ譲渡する。譲渡額は未公表。譲渡は日立が提案した。背景にはマスク開発投資の増大がある。「今後２〜３年以内に少なくとも３０億円，露光装置次第では１００億円が必要」（日立）になる。マスク事業を手放すことで日立の競争力低下を指摘する向きがあるが，「位相シフト・マスクを含め，ＬＳＩメーカーがマスク製造に差異化要因…