特集　Ｐａｒｔ３ｂ〜特集Ｐａｒｔ３　インタビュー
日経マイクロデバイス　第165号　1999.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第165号（1999.3.1）
ページ数	5ページ　（全7475字）
形式	PDFファイル形式　（104kb）
雑誌掲載位置	94〜98ページ目

●ニコン諏訪　恭一氏精機事業本部半導体露光装置事業部副事業部長　１９９９年に入ったところで完成度の高いＡｒＦエキシマ・レーザー露光装置を開発し，ポストＡｒＦ露光の技術開発のための布石を打った。　ＡｒＦ露光は，露光面積を広げた試作向け装置を１９９９年１月に出荷した。この装置の完成度は高い。レーザー照射によってレンズ表面に雰囲気中の化学物質が付着する問題は装置内の雰囲気制御やレンズ・コーティング技術の…