ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜４００ｍｍウエーハ向け 平坦度検査装置を 黒田精工が開発
日経マイクロデバイス 第163号 1999.1.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第163号（1999.1.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全220字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （38kb） |
| 雑誌掲載位置 | 159ページ目 |
黒田精工が４００ｍｍウエーハ向けの平坦度検査装置「ナノメトロ４００ＦＷ」を開発した。この装置は，ウエーハ・メーカーと日本政府が共同出資した大口径ウエーハ開発機関のスーパーシリコン研究所との契約に基づいて黒田精工が開発，１９９８年１０月９日にスーパーシリコン研究所に納入した。平坦度やソリ，粗さなどの多様な項目を，切断直後から研磨後の各段階のウエーハ両面に対して検査できる。測定精度は０．１μｍ，繰り…
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