Ｈｏｔ Ｎｅｗｓ〜ポストＳｉＣに「ＧｅＯ２」が名乗り 琵琶湖で企業連合が発足へ
日経エレクトロニクス 第1265号 2024.7.1
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1265号（2024.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全1974字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （654kb） |
| 雑誌掲載位置 | 20〜21ページ目 |
炭化ケイ素（ＳｉＣ）や窒化ガリウム（ＧａＮ）よりも低損失なパワー半導体「二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）」の実用化を目指す動きが出てきた。立命館大学発スタートアップを中心に、装置からユーザー企業まで幅広い企業が参画するコンソーシアムが２０２４年内に立ち上がる予定だ。まずはパワー素子の製造に用いるＧｅＯ２ウエハーを商用化する（図１）。自治体や金融機関も参加 このコンソーシアムの前身は、水資源が豊富な琵…
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