ＮＥレポート〜磁性薄膜をチップ上に形成し 内部の自家中毒を抑制
日経エレクトロニクス 第1125号 2014.1.6
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1125号（2014.1.6） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2496字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （544kb） |
| 雑誌掲載位置 | 10〜11ページ目 |
「ＩＣの設計や製造技術を変えることなく、後から磁性薄膜を形成するだけでＩＣ内で発生する雑音を抑制できる」（東北大学大学院 工学研究科 未来科学技術共同研究センター 教授の山口正洋氏）。 東北大学、神戸大学、ルネサス エレクトロニクス、ＮＥＣの研究グループは、Ｓｉチップ内のデジタル回路からアナログ回路に伝わる電磁雑音を、チップ上に形成した磁性薄膜によって抑制する技術を開発した１）。内部から発生す…
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