解説3〜3次元セルが切り開くTビットNANDフラッシュ
日経エレクトロニクス 第1008号 2009.7.13
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1008号(2009.7.13) |
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ページ数 | 5ページ (全5553字) |
形式 | PDFファイル形式 (1449kb) |
雑誌掲載位置 | 69〜73ページ目 |
「現行のNANDフラッシュ・メモリの微細化はどこまで続くのか」。この問い掛けに対して,NANDフラッシュ・メモリの2大メーカーであるSamsung Electronics社,東芝はそろって「2Xnm世代」と答えた。2009年6月に開催された半導体製造/回路の国際会議「2009 Symposia on VLSI Technology and Circuits」のランプ・セッションでのひとコマである。…
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