特集 半導体・新進化論〜大変革の胎動始まる 「横から縦へ」がＬＳＩを一新
日経エレクトロニクス 第943号 2007.1.15
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第943号（2007.1.15） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全9798字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （508kb） |
| 雑誌掲載位置 | 74〜81ページ目 |
ＬＳＩの将来を左右する巨大な変化が起きようとしている。これまで，単なる研究対象だった３次元ＬＳＩが，ＬＳＩの高性能化や低価格化を牽引する主力技術に浮上しそうだ。従来の主役だった微細化技術が，さまざまな用途で効果を失ってきたからである。２〜３年のうちにＤＲＡＭ，５年後にもフラッシュ・メモリやマイクロプロセサが，３次元技術を使う。「横から縦へ」の大変化は，半導体業界の勢力地図や，機器設計の常識を大きく…
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