What’s New〜究極のSiPに向け Si貫通電極が実用へ
日経エレクトロニクス 第902号 2005.6.20
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第902号(2005.6.20) |
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ページ数 | 2ページ (全2864字) |
形式 | PDFファイル形式 (241kb) |
雑誌掲載位置 | 34〜35ページ目 |
LSIチップに開けた穴に金属電極を形成し,積層チップ間の接続に使うSi貫通電極技術を,今後1年〜2年以内に複数の半導体メーカーが実用化しそうだ。これまで実用化を阻んでいた技術的課題が急速に解消に向かっている。2005年6月に,これまでの課題を乗り越える技術が相次いで登場した。セイコーエプソンは,Si貫通電極を業界で初めて実際の商用チップに適用し,性能などの評価結果を公開した。日立製作所とルネサス…
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