技術速報〜リープル，低加速電圧の電子ビーム露光技術で７０ｎｍの描画を実証 ダイアモンド薄膜を使ってマスクを作製
日経エレクトロニクス 第785号 2000.12.18
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第785号（2000.12.18） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全560字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （29kb） |
| 雑誌掲載位置 | 28ページ目 |
東京精密の関連会社であるリープルは，低加速電圧の電子ビーム露光技術「ＬＥＥＰＬ」を使って７０ｎｍのパターン描画に成功した。２００２年に設計ルール０．１ｎｍ以下のＬＳＩの量産ラインに向けてこの技術を使った露光装置を投入する。 ＬＳＩ量産用の電子ビーム露光技術には，現在大きく二つの手法がある。（１）加速電圧が２ｋＶ程度と低い電子ビームをウエーハに近接させた等倍の穴あきマスクに照射する今回の手法と，（…
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