技術速報〜アドバンテスト，マスクを使わない量産向け電子ビーム露光装置を ２００４年に出荷，０．０７ｎｍ世代のチップに向ける
日経エレクトロニクス 第745号 1999.6.14
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第745号（1999.6.14） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全544字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （41kb） |
| 雑誌掲載位置 | 22ページ目 |
アドバンテストは，マスクを使わない量産向け電子ビーム露光装置を２００４年に出荷する。設計ルール０．０７ｎｍのチップを対象とする。マスクを使わずに，回路パターンを形成する手法は以下の通り。１本の電子ビームを３２×３２（＝１０２４本）のマトリクス状に分け，各々の電子ビームの大きさ，形，位置を独立に変えて所望のパターンを形成する。このパターンを組み合わせて複雑な回路パターンを形成する。 複数本の電子ビ…
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