ニッポンの技術再発見−−第２７回−−旭ダイヤモンド工業：ダイヤ砥粒の配列が決め手ＣＭＰコンディショナー
週刊東洋経済 第5921号 2004.10.16
| 掲載誌 | 週刊東洋経済 第5921号（2004.10.16） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1543字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （192kb） |
| 雑誌掲載位置 | 76頁目 |
ニッポンの技術再発見第２７回旭ダイヤモンド工業：ダイヤ砥粒の配列が決め手ＣＭＰコンディショナー開発者 佐川正行 シリコンウエハを機械的・化学的に研磨するＣＭＰプロセスの中の研磨材料ＣＭＰパッドを研磨するＣＭＰコンディショナー。ダイヤモンド砥粒を３次元で規則的に配列し、接着剤をお椀型にして砥粒の脱落を防ぎ、スクラッチをなくした。スラリーのつまりも解消。砥粒角の方向と高さが不均一な廉価版も。 シリコン…
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