トップのための経営実務〜特　許
日経ベンチャー　第191号　2000.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経ベンチャー　第191号（2000.8.1）
ページ数	2ページ　（全2950字）
形式	PDFファイル形式　（56kb）
雑誌掲載位置	130〜131ページ目

特許法の一部が改正されて、出願者が希望すれば特許庁に出願中の技術をこれまでより早く公開できる早期公開制度が新たに導入された。いまのところ早期公開制度を利用した出願者は意外と少ないが、新制度には様々な利用法が考えられる。　日本の特許には、出願公開という制度があります。この出願公開とは、特許庁に出願してから一定期間を経過すると、出願した内容が公開特許公報に掲載されるという制度です（特許法六四条）。ただ…