Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！ Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］
日経マイクロデバイス 第292号 2009.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第292号（2009.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全3669字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （344kb） |
| 雑誌掲載位置 | 78〜79ページ目 |
ＬＳＩメーカーや製造装置メーカーによる３Ｘ〜２Ｘｎｍプロセス技術の開発が佳境を迎えている。世界のＬＳＩプロセス開発の先導役の一角を占める台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ）は，２８ｎｍの限定的な生産（リスク生産）開始時期とプロセス技術の詳細を発表した。製造装置大手の東京エレクトロン（ＴＥＬ）は，米Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ…
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