Report[LSI]〜450mm装置開発の加速を狙い推進派が性能の目標値を設定
日経マイクロデバイス 第283号 2009.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第283号(2009.1.1) |
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ページ数 | 2ページ (全2653字) |
形式 | PDFファイル形式 (296kb) |
雑誌掲載位置 | 98〜99ページ目 |
450mmウエーハへの移行に向けて,米Intel Corp.,韓国Samsung Electronics Co., Ltd.,台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.(TSMC)の推進派3社が,次の手に打って出た(図1,図2)。450mm化の取り組みを実践する米International SEMATECH Manufacturing Initi…
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