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日経マイクロデバイス 第283号 2009.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第283号(2009.1.1) |
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ページ数 | 2ページ (全3978字) |
形式 | PDFファイル形式 (312kb) |
雑誌掲載位置 | 108〜109ページ目 |
【次世代露光・最前線その3】ダブル・パターニングを巡るASMLとニコンのつばぜり合い 次世代の露光技術であるダブル・パターニング用のArF液浸露光装置を巡って,オランダASML社とニコンのつばぜり合いが激しさを増してきた。最近では,ニコン 取締役 兼 専務執行役員 精機カンパニープレジデントの牛田一雄氏が11月6日の決算発表において,「2009年後半には,(ASMLにとって有利となる)ユーロ安の状…
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