ＩＰ　Ｉｎｎｏｖａｔａｉｏｎ　知財イノベーション〜ベベル洗浄技術の知財戦略
日経マイクロデバイス　第261号　2007.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第261号（2007.3.1）
ページ数	1ページ　（全1316字）
形式	PDFファイル形式　（199kb）
雑誌掲載位置	150ページ目

　半導体ウエーハの大口径化，液浸露光技術の登場で，従来より処理が難しいとされていたウエーハ周辺部（ベベル）の洗浄の重要性がクローズアップされてきた。いわゆるベベル洗浄技術である。この課題に対して，各社各様のアプローチが検討されている（図１）。知財戦略の視点からこの技術開発が与える影響を分析してみたい。ハード，ソフトが一体で効果　知財戦略を検討する前提として，ベベル洗浄技術の現状を整理する。　第１に…