Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「ＤＲＡＭやＮＡＮＤ型フラッシュへ拡大」 ＮｏｖｅｌｌｕｓのＣｕ配線装置事業
日経マイクロデバイス 第255号 2006.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第255号（2006.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全397字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （248kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
「ＤＲＡＭやＮＡＮＤ型フラッシュ・メモリー向けのＣｕ配線装置事業は，２００６〜２００７年に本格的に立ち上がる」。米Ｎｏｖｅｌｌｕｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ， Ｉｎｃ．は，７月２４日に東京で開催したＣｕ電解メッキ装置の新製品「ＳＡＢＲＥ Ｅｘｔｒｅｍｅ」の発表会で，こうした見通しを明らかにした。同社の装置は，従来は多層配線のロジックＬＳＩ向けだが，今後，Ｃｕ配線導入の動きがあるメモリー向けに事業を拡大して…
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