Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜３００ｍｍファブの生産性向上と ４５０ｍｍへの移行を議論
日経マイクロデバイス 第255号 2006.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第255号（2006.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全556字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （248kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
２００５年末に発表された「国際半導体技術ロードマップ（ＩＴＲＳ）２００５」に基づく米Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ＳＥＭＡＴＥＣＨ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｉｎｉｔｉａｔｉｖｅ（ＩＳＭＩ）試算の結果，今後の半導体デバイスのコスト・ダウンは，従来の年率２９％のペースの維持が難しいと指摘された。その対応として一層のファブ生産性向上が今後の大きな課題として浮上した。７月１１日，米国サンフランシスコの…
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